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抛丸机常用的几种抛光方法

发布时间:2014-11-12      阅读人次:553次

电解抛光
  电解抛光的基本原理与化学抛光相同,就是靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,来让表面光滑。与化学抛光相比,还可以消除阴极反应的影响,效果相当好。电化学抛光过程又可以分为两步:
  (1)宏观整平 溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降。
  (2)微光平整 阳极极化,从而让表面光亮度提高。 
  机械抛光
  机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部来得到平滑面的抛光方法,通常是使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体表面,可以让使用转台等辅助工具,表面质量要求高的可以采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,让含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速的旋转运动。利用这项技术可以达到表面粗糙度,是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具就是经常采用这种方法。
  化学抛光
  化学抛光就是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分比较凹部分能够优先溶解,因此得到平滑面。这种方法的主要优点是不需要很复杂设备,就可以把抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多的工件,而且效率还非常高。但是化学抛光的核心问题是抛光液的配制。